Optimisation de la diode à Superjonction et à tranchées profondes pour des applications à 600V - Université Toulouse III - Paul Sabatier - Toulouse INP Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2014

Optimisation de la diode à Superjonction et à tranchées profondes pour des applications à 600V

Résumé

L'objectif de ce papier est de présenter l'optimisation et la réalisation d'une diode à Superjonction et à tranchées profondes et de sa terminaison (DT-SJDiode) pouvant tenir des tensions de 600 V à l'état bloqué. Nous étudierons l'influence des paramètres technologiques et géométriques sur la tenue en tension à partir de simulations effectuées sous Sentaurus TCAD. Des travaux précédents ont permis de valider certaines étapes technologiques et de dégager un procédé de fabrication pour des applications à 1200V. Il s'agit ici d'optimiser ces différentes étapes qui influent sur les paramètres électriques (verticalité des tranchées, remplissage des tranchées de terminaison de jonction, ...) pour des applications à 600V.
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hal-01065277 , version 1 (18-09-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01065277 , version 1

Citer

Sylvain Noblecourt, Josiane Tasselli, Frédéric Morancho. Optimisation de la diode à Superjonction et à tranchées profondes pour des applications à 600V. Symposium de Génie Électrique 2014, Jul 2014, Cachan, France. ⟨hal-01065277⟩
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