Capteurs de gaz à base de nanofils verticaux et ordonnés de silicium
Résumé
L'objectif de cette étude consiste à développer une nouvelle génération de capteurs de gaz ultra sensibles basés sur la nanostructuration du silicium sous forme de nanofils(NFs) verticaux de manière contrôlée et reproductible par une approche « top-down ». Ces NFs sont contactés électriquement par un pont suspendu. Ainsi une large surface du NF est disponible, et peut réagir avec le gaz environnant. Cette approche permet de réaliser des réseaux de NFs définis par photolithographie optique pour contrôler parfaitement leur nombre, leur espacement et leur position et obtenir ainsi des dispositifs reproductibles. Les capteurs ont ensuite été caractérisés électriquement et sous différentes ambiances gazeuses.
Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)
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