Ability of conventional DC magnetron sputtering to coat complex substrates - Université Toulouse III - Paul Sabatier - Toulouse INP Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2012

Ability of conventional DC magnetron sputtering to coat complex substrates

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01288943 , version 1 (15-03-2016)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01288943 , version 1

Citer

Anne-Lise Thomann, Constantin Vahlas, Aloui L., Eliane Amin-Chalhoub, Amael Caillard, et al.. Ability of conventional DC magnetron sputtering to coat complex substrates. 13th International Conference on Plasma Surface Engineering PSE 2012, Sep 2012, Garmisch-Partenkirchen, Germany. ⟨hal-01288943⟩
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