Stability of Frenkel pairs in Si(100) surface in the presence of germanium and oxygen atoms
Résumé
no abstract
Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2011
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Soumis le : jeudi 2 mars 2017-23:40:02
Dernière modification le : lundi 20 novembre 2023-11:44:17
Citer
S. Fetah, A. Chikouche, A. Dkhissi, Georges Landa, P. Pochet. Stability of Frenkel pairs in Si(100) surface in the presence of germanium and oxygen atoms. Microelectronic Engineering, 2011, 88 (4), pp.503-505. ⟨10.1016/j.mee.2010.11.044⟩. ⟨hal-01481809⟩
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