Comprehensive electrical analysis of metal/Al 2 O 3 /O-terminated diamond capacitance

T. Pham (1) , A. Maréchal (1) , P. Muret (1) , D. Eon (1) , E. Gheeraert (1, 2) , Nicolas Rouger (3) , Julien Pernot (1)

1 NEEL - SC2G - Semi-conducteurs à large bande interdite
2 Université de Tsukuba = University of Tsukuba
3 LAPLACE-CS - Convertisseurs Statiques

Domaines: Physique [physics]; Physique [physics]; Sciences de l'ingénieur [physics]; Electronique

T. Pham, A. Maréchal, P. Muret, D. Eon, E. Gheeraert, et al.. Comprehensive electrical analysis of metal/Al 2 O 3 /O-terminated diamond capacitance. Journal of Applied Physics, 2018, 123 (16), pp.161523. ⟨10.1063/1.4996114⟩. ⟨hal-01701727⟩