Mise au point d'un procédé d'amincissement et de polissage d'un wafer de silicium Séverine VIVIES - Université Toulouse III - Paul Sabatier - Toulouse INP Accéder directement au contenu
Autre Rapport, Séminaire, Workshop Année : 2013

Mise au point d'un procédé d'amincissement et de polissage d'un wafer de silicium

Mise au point d'un procédé d'amincissement et de polissage d'un wafer de silicium Séverine VIVIES

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux Micro et nanotechnologies/Microélectronique
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Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

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https://laas.hal.science/hal-01913185

Soumis le : mardi 6 novembre 2018-10:03:17

Dernière modification le : lundi 20 novembre 2023-11:44:22

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Dates et versions

hal-01913185 , version 1 (06-11-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01913185 , version 1

Citer

Séverine Vivies, David Colin, Samuel Charlot, Monique Dilhan. Mise au point d'un procédé d'amincissement et de polissage d'un wafer de silicium Séverine VIVIES. Rapport LAAS n° 13274. 2013. ⟨hal-01913185⟩

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