Growth and properties of GaAsBi thin layers by molecular beam epitaxy - Université Toulouse III - Paul Sabatier - Toulouse INP Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2016

Growth and properties of GaAsBi thin layers by molecular beam epitaxy

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01947425 , version 1 (06-12-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01947425 , version 1

Citer

Chantal Fontaine, Alexandre Arnoult, Fuccio Cristiano, Hélène Carrère, Sawsen Azaizia, et al.. Growth and properties of GaAsBi thin layers by molecular beam epitaxy. International Workshop on Bismuth-Containing Semiconductors, Jul 2016, Shanghai, China. 2016. ⟨hal-01947425⟩
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