Comportement en matage d'un CMC oxyde/oxyde
Résumé
no abstract
Communication Dans Un Congrès
Année : 2017
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https://hal.science/hal-02043098
Soumis le : mercredi 20 février 2019-17:20:03
Dernière modification le : lundi 20 novembre 2023-11:44:20
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02043098 , version 1
Citer
Marion Broutelle, Frederic Lachaud, Chloé Dupleix-Couderc, Alain Daidié. Comportement en matage d'un CMC oxyde/oxyde. JNC 20, 2017, Champs sur Marme, France. ⟨hal-02043098⟩
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