Atmospheric pressure dual RF-LF frequency discharge: Influence of LF voltage amplitude on the RF discharge behavior - Université Toulouse III - Paul Sabatier - Toulouse INP Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Plasma Sources Science and Technology Année : 2020

Atmospheric pressure dual RF-LF frequency discharge: Influence of LF voltage amplitude on the RF discharge behavior

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Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-02384693 , version 1 (01-12-2020)

Identifiants

Citer

Romain Magnan, G J M Hagelaar, Mohamed Chaker, F. Massines. Atmospheric pressure dual RF-LF frequency discharge: Influence of LF voltage amplitude on the RF discharge behavior. Plasma Sources Science and Technology, 2020, 29 (3), pp.035009. ⟨10.1088/1361-6595/ab4cfe⟩. ⟨hal-02384693⟩
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