A COMPARATIVE STUDY OF METAL OXIDE AND METAL/OXIDE/SILICA THIN FILMS Deposited by LP microwave plasma process  frommetalorganic precursors : Zirconium (IV) t-Butoxide and Titanium (IV) Isopropoxide

Patrice Raynaud; I. Martinko; R. Alvarez; A. Palmero

Communication Dans Un Congrès Année : 2019

A COMPARATIVE STUDY OF METAL OXIDE AND METAL/OXIDE/SILICA THIN FILMS Deposited by LP microwave plasma process frommetalorganic precursors : Zirconium (IV) t-Butoxide and Titanium (IV) Isopropoxide

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Patrice Raynaud

Fonction : Auteur
PersonId : 740336
IdHAL : patrice-raynaud
ORCID : 0000-0001-6381-3875
IdRef : 111096731

Sciences et Ingénierie des Plasmas Réactifs et des Arcs

I. Martinko

Fonction : Auteur

R. Alvarez

Fonction : Auteur

A. Palmero

Fonction : Auteur

Mots clés

FTIR mode de croissance organosiliciés MEB Organometalliques Plasma ECR AFM

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics] Matériaux Plasmas Génie des procédés

Article Plathinium 2019.pdf (206.47 Ko)

Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Patrice RAYNAUD : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02393113

Soumis le : jeudi 3 décembre 2020-21:09:57

Dernière modification le : lundi 20 novembre 2023-11:44:24

Dates et versions

hal-02393113 , version 1 (03-12-2020)

Identifiants

HAL Id : hal-02393113 , version 1

Citer

Patrice Raynaud, I. Martinko, R. Alvarez, A. Palmero. A COMPARATIVE STUDY OF METAL OXIDE AND METAL/OXIDE/SILICA THIN FILMS Deposited by LP microwave plasma process frommetalorganic precursors : Zirconium (IV) t-Butoxide and Titanium (IV) Isopropoxide. Plasma thin films international union - PLATHINIUM, SFV, Sep 2019, ANTIBES, France. ⟨hal-02393113⟩

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