Article Dans Une Revue
Chemical Vapor Deposition
Année : 2010
Lauriane Pillet : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://univ-lyon1.hal.science/hal-02957894
Soumis le : lundi 5 octobre 2020-14:38:05
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:11
Citer
Jitti Mungkalasiri, Laurent Bedel, Fabrice Emieux, Jeanne Doré, François Renaud, et al.. CVD Elaboration of Nanostructured TiO 2 -Ag Thin Films with Efficient Antibacterial Properties. Chemical Vapor Deposition, 2010, 16 (1-3), pp.35-41. ⟨10.1002/cvde.200906764⟩. ⟨hal-02957894⟩
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