Etude des phénomènes d'injection et de stockage de charges électriques dans des couches minces de SiO x N y par microscopie à sonde de Kelvin (KPFM)

Florian Mortreuil (1) , Christina Villeneuve-Faure (1) , Laurent Boudou (1) , Kremena Makasheva (2) , G. Teyssedre (1)

1 LAPLACE-DSF - Diélectriques Solides et Fiabilité
2 LAPLACE-MPP - Matériaux et Procédés Plasmas

L'évolution des charges injectées, en surface ou à proximité, au cours du temps peut être caractérisée par l'observation des variations du potentiel de surface résultant. Des mesures à l'échelle locale sont possibles grâce à la microscopie à sonde de Kelvin (KPFM). Dans ce papier, nous nous proposons d'étudier l'influence des conditions d'injection et de l'épaisseur de la couche isolante sur l'évolution au cours du temps des charges électriques. Deux comportements distincts seront mis en évidence par les mesures KPFM ainsi que la mesure du courant électrique traversant la couche de SiO x N y lors de l'injection.

Domaines: Sciences de l'ingénieur [physics]

Florian Mortreuil, Christina Villeneuve-Faure, Laurent Boudou, Kremena Makasheva, G. Teyssedre. Etude des phénomènes d'injection et de stockage de charges électriques dans des couches minces de SiO x N y par microscopie à sonde de Kelvin (KPFM). 9e Conférence Société Française d'Electrostatique (SFE), Toulouse, France, 27-29 Aout 2014, Aug 2014, Toulouse, France. pp. 134-139. ⟨hal-03034509⟩