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hal-00667922v1
Journal articles
A.L. Thomann, Constantin Vahlas, Lyacine Aloui, Diane Samelor, Amael Caillard et al. Conformity of aluminum thin films deposited onto micro-patterned silicon wafers by pulsed-laser deposition, magnetron sputtering, and CVDChemical Vapor Deposition, Wiley-VCH Verlag, 2011, 17, pp.366
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hal-00540019v1
Conference papers
N. Shaharil, R. Blanc, N. Prud'Homme, Amael Caillard, Eric Millon et al. Conformité, microstructure et purété de films d'aluminium déposés sur substrats de Si patternés. Etude comparative selon le procédé de dépôt : pulvérisation plasma, ablation laser, dépôt chimique en phase vapeurMateriaux 2010, Oct 2010, NANTES, France. pp.résumé 0235
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